Fysikaalinen höyrysaostuminen

Fysikaalista kaasufaasipinnoitusta (tai PVD varten Englanti fysikaalista kaasufaasipinnoitusta ) on joukko menetelmiä tyhjiöhöyrystyslähde on ohutkalvojen  :

• Suora haihdutus:
  • Tyhjiöhaihdutus (tai haihdutus)
  • Haihtumishöyryelektronisuihku (Engl. Electron beam höyrystys )
• sputterointi  : metallihiukkaset erotetaan substraatistaan ​​ionipommituksella.
• Ablaatiopulssilaser- ( pulssi- ​​lasersäteily tai pulssilaseroituminen ) atomit ja ionit höyrystyvät voimakkaan lasersäteilyn vaikutuksesta.
• Molekyylisäteen epitaksia
• Sähkökaaripinnoitus ( Arc-PVD ): Atomit ja ionit höyrystyvät voimakkaan virran vaikutuksesta, mikä johtuu kahden elektrodin välisestä sähköpurkauksesta, jolla on voimakas potentiaaliero, joka irrottaa metallihiukkaset ja saa ne kulkemaan kaasufaasin läpi.

Toinen menetelmä ohuiden kalvojen tyhjiöpinnoitus on kemiallinen höyrykerros (tai CVD englanninkieliselle kemialliselle höyrykerrostukselle ).

Eurooppalainen Hardecoat- projekti käyttää tätä PVD-tekniikkaa ohutkalvojen tekemiseen.